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不仅如此，中国光刻机厂商还在光刻机等技术方面迅速突破，上海微电子已经完成了28nm光刻机的验证，预计在今年年底就能够出货国内厂商，长春光机所也完成了EUV光刻机的光源样机制造，哈工大则是在光学物镜等方面取得了不小的突破。
从目前的情况来看，ASML获得出货许可很有可能是因为荷兰和ASML开始着急了，面临着失去中国市场的风险荷兰和ASML也顾不上美国的要求了，千方百计想要继续出货。
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